Kimya ve İlaç

Fiziksel buhar biriktirme (Fiziksel Buhar Biriktirme, PVD) teknolojisi, bir malzeme kaynağının (katı veya sıvı) yüzeyini gaz halindeki atomlara veya moleküllere buharlaştırmak veya kısmen iyonlara iyonlaştırmak ve düşük basınçlı gazdan (veya plazmadan) geçirmek için vakum koşulları altında fiziksel yöntemlerin kullanılmasını ifade eder. Bir alt tabakanın yüzeyine özel işlevli ince bir film biriktirme teknolojisi olan bu işlem, temel yüzey işleme teknolojilerinden biridir. PVD (fiziksel buhar biriktirme) kaplama teknolojisi temel olarak üç kategoriye ayrılır: vakumlu buharlaştırma kaplama, vakumlu püskürtme kaplama ve vakumlu iyon kaplama.

Ürünlerimiz ağırlıklı olarak termal buharlaştırma ve püskürtme kaplamada kullanılmaktadır. Buhar biriktirmede kullanılan ürünler arasında tungsten tel, tungsten tekneler, molibden tekneler ve tantal tekneler bulunur. Elektron ışını kaplamasında kullanılan ürünler arasında katot tungsten tel, bakır pota, tungsten pota ve molibden işleme parçaları bulunur. Püskürtme kaplamada kullanılan ürünler arasında titanyum hedefler, krom hedefler ve titanyum-alüminyum hedefler bulunur.

PVD kaplama